めっき膜の物性

めっき膜の物性は膜の組成の変化によって制御する。
めっき膜は金属材料そのものなので、金属材料学的に考え、薄膜なら表面及び界面の影響についても考慮する。
主な要因・特徴
  • めっき膜の組成変化は合金化、電流密度、浴組成、ph変化などが影響する
  • 故に物性の制御はめっき膜を形成する元素の種類とその量の比(組成)を一定にする必要がある
  • 故にめっき浴の組成や電流密度、めっき温度などを精密に制御しなくてはならない
  • めっき膜は一意ではなく初期層、二層目と状態が異なる場合がある
  • 合金めっきでは初期層がしばしばあらわれる
  • 電析初期には一般に合金のうちの貴な金属の方が先ず最初に析出するために発生
  • そして時間が経てばpH上昇が起こるので、錯体の崩壊などで析出の優先が代わる可能性がある
  • Ni-Sn⇒一層目Sn濃度高く、二層目は均一になり、しばらくすると再びSn濃度が高くなる
  • Ni-Snめっきではピロリン錯体を用いたため、pHの上昇で錯体が壊れて裸の金属イオンとなり、Snの優先析出のめっき膜となる
  • 故に撹拌の不均一によるpH変動でも層構造を形成する可能性がある
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